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半導体の対中国規制､いたちごっこ続く次の焦点アメリカが圧倒的シェアを誇る設計技術がカギ
https://toyokeizai.net/articles/-/837169
2024-10-31 11:33:19
＞ただし、EUV露光装置を使用しないマルチ・パターニング技術は歩留まりの向上が難しいことが知られている。図3にSMIC社の売上と営業利益の推移を示す。売り上げは増えているのに営業利益がまったく増えていない。さらなる詳細な分析は必要だが半導体製造装置の買いだめ影響があるほか、先端製品の歩留まりが低迷していることも主要因だと筆者は考える。
＞5nmノード世代までは経済合理性（製品歩留まり）を無視して量産してくるはずだが、EUV露光装置が必要になる3nmノード世代以降をキャッチアップするのは多くの時間を要すだろう。その意味で半導体製造装置輸出規制の効果はあると考えるが、この輸出規制は中国が半導体製造装置を内製する動きを加速させるだろう。
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